85. 台灣在科技業的重要發展項目為「積體電路(IC)」，其光學顯影過程的正確順序為何？
(A) 塗上光阻→覆蓋薄模→蝕刻→顯影→去除光阻
(B) 覆蓋薄模→塗上光阻→顯影→蝕刻→去除光阻
(C) 覆蓋薄模→塗上光阻→蝕刻→顯影→去除光阻
(D) 塗上光阻→覆蓋薄模→顯影→蝕刻→去除光阻

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