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96年 - 96 專利商標審查特種考試_三等_光電工程:光學#49838
> 申論題
題組內容
五、當一道平行光從介質一(折射率為 n1)入射介質二(折射率為 n2)時,因兩種介質 之折射率之差距而產生折射。
⑴解釋何謂入射面(incident plane)、TE 偏振與 TM 偏振。(6 分)
相關申論題
⑵說明 TE 偏振與 TM 偏振產生全反射(total reflection)的條件。(6 分)
#175752
⑶說明 TE 偏振與 TM 偏振產生全透射(100% transmission)的條件。(6 分)
#175753
六、⑴說明何謂繞射極限(diffraction limit)之光學系統。(5 分)
#175754
⑵在一個繞射極限的雷射光學聚焦系統中,若欲將聚焦點縮小成原來的一半,有何 方式可做到?(8 分)
#175755
二、⑴簡釋何謂二元搜尋樹(Binary search tree)。
#175757
⑵如果依序將 52, 20, 60, 30, 16, 55, 72, 36, 39, 66 等數字加入成為二元搜尋樹,寫出 最後所得的二元搜尋樹。 (20 分)
#175758
⑴遞迴(Recursive)技術。
#175759
⑵反覆(Iterative)技術。 備註:n! = n*(n-1)*(n-2)*...*2*1
#175760
四、寫出並說明 ANSI/SPARC 對資料庫所建構的三階結構(Three levels of the architecture)。 (20 分)
#175761
⑴指出該定義有一不合法的邊線並說明原因。
#175762
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