一、一項新光阻塗覆製程被使用於製造積體電路的 125 毫米晶片的生產。 挑 10 片晶片測試，測量的光阻厚度（單位：埃×1000）如下：13.3987、 13.3957、13.3902、13.4015、13.4001、13.3918、13.3965、13.3925、 13.3946 及 13.4002。
(二)假設厚度資料呈常態分配，求厚度平均數99%的雙邊信賴區間。
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