最新資料

iPAS◆生產與作業管理基礎◆初級

iPAS◆智慧製造生產線管理基礎◆初級

iPAS◆3D列印製程與材料概論◆初級

115年 - 22700 民俗調理業腳底按摩 單一 工作項目 01：腳底按摩操作前準備作業 301-355（2026/01/14 更新）#136908(55題)

115年 - 22700 民俗調理業腳底按摩 單一 工作項目 01：腳底按摩操作前準備作業 251-300（2026/01/14 更新）#136907(50題)

115年 - 22700 民俗調理業腳底按摩 單一 工作項目 01：腳底按摩操作前準備作業 201-250（2026/01/14 更新）#136906(50題)

115年 - 22700 民俗調理業腳底按摩 單一 工作項目 01：腳底按摩操作前準備作業 151-200（2026/01/14 更新）#136905(50題)

115年 - 22700 民俗調理業腳底按摩 單一 工作項目 01：腳底按摩操作前準備作業 101-150（2026/01/14 更新）#136904(50題)

115年 - 22700 民俗調理業腳底按摩 單一 工作項目 01：腳底按摩操作前準備作業 51-100（2026/01/14 更新）#136903(50題)

115年 - 22700 民俗調理業腳底按摩 單一 工作項目 01：腳底按摩操作前準備作業 1-50（2026/01/14 更新）#136902(50題)

115年 - 22400 化學性因子作業環境監測 乙級 工作項目 06：監測結果評估與處理 51-94（2026/01/14 更新）#136901(44題)

115年 - 22400 化學性因子作業環境監測 乙級 工作項目 06：監測結果評估與處理 1-50（2026/01/14 更新）#136900(50題)

115年 - 22400 化學性因子作業環境監測 乙級 工作項目 05：直讀式儀器及設備 51-87（2026/01/14 更新）#136899(37題)

複選題40.下列有關『預防感電事故發生的作法』之敘述，請問何者是正確的？(A)預防跨步電壓觸電應遠離電線掉落之落電處或導線接地點(B)電線走火時通常使用泡沫滅火器滅火(C)用電設備非帶電體之金屬外殼不需接地(D)在分路裝設漏電斷路器

複選題39.下列各種試驗，請問何種無法測量出三相感應電動機之全部銅損？(A)無載試驗 (B)堵住試驗 (C)滿載試驗 (D)溫度試驗

複選題38.下列有關『直流無刷電動機』之敘述，請問何者是正確的？(A)直流無刷電動機無法避免發生換向火花的問題(B)直流無刷電動機是用電阻元件感測磁場位置(C)直流無刷電動機是利用電晶體作繞組電流的換向(D)直流無刷電動機的轉子是以永久磁鐵構成

(4)負載試驗的目的是測量滿載的_______及電壓的_______ 。

(3)溫升試驗的目的是測量_______的耐溫。

(2)開路試驗的目的是測量激磁導納與 _______。

國中數學一二冊總複習

講師：阿尼斯特

簡介：本課程為總複習性質之課程，適合學完一個段落之後的自我檢視! 初步規劃先上傳國一課程內容的，不分版本，所...

國三上英文課程(九年級)

講師：台中大雅家教-睿智數學及英文家教，王瑞志老師

簡介：提供國三上英文單字口訣記憶課程，老師嚴選測驗題，透過遊戲+影音+講義+測驗，多環相扣的方式，就是要你將...

Rich 測試

講師：100006038081169

簡介：Rich 測試

台灣銀行

課程：公股銀行英文
章節：閱讀測驗

土地銀行

課程：公股銀行英文
章節：文法測驗

土地銀行

課程：公股銀行英文
章節：克漏字測驗

18. 奈米科技之定義是指在多少尺度範圍內的技術？ (A) 10–11 m ~ 10–10 m (B) 10–9 m ~ 10–7 m (C) 2.0 × 10–7 m ~ 5.0 × 10–7 m (D) 10–7 m ~ 10–6 m (E) 10–10 m ~ 10–8 m

19. 利用無機的奈米材料暴露在空氣中吸附空氣中的污染物質，可進行反應以降解污染 物質，此機制是與奈米材料的哪一項特性有關？ (A) 表面效應 (B) 量子尺寸效應 (C) 量子穿隧效應 (D) 光晶效應 (E) 庫倫堵塞效應

36. (A) that (B) this (C) it (D) those

37. (A) how (B) where (C) which (D) while

38. (A) but (B) so that (C) or that (D) yet

20 智慧財產案件審理法關於專利行政事件程序得準用民事事件程序之規定，下列何者不在準用 範圍？ (A)秘密保持命令規定 (B)權利有效性爭執之處理 (C)法院已知之特殊專業知識，應予當事人有辯論之機會，始得採為裁判之基礎 (D)定暫時狀態處分規定