最新資料

邏輯推理能力、企劃案實務論述

：(1)邏輯推理能力(2)程式設計（以 R 語言為主、ASP.NET、JavaScript、 CSS 為輔）(3)資料庫應用

(1)程式設計(以 APP、HTML5/CSS 與 RWD、JAVA、SQL 語言為主) (2)系統分析(3)資料結構及資料庫應用

115年 - 115 高等考試_三級_金融保險：保險學#142330(4題)

115年 - 115 高等考試_三級_智慧財產行政：智慧財產法規（包括專利法、商標法及著作權法）#142329(4題)

115年 - 115 高等考試_三級_法制：民法與民事訴訟法#142328(4題)

115年 - 115 高等考試_三級_圖書資訊管理：資訊系統與資訊檢索#142327(4題)

115年 - 115 高等考試_三級_土木工程：營建管理與工程材料#142326(6題)

115年 - 115 高等考試_三級_人事行政：公共人力資源管理#142325(4題)

115年 - 115 高等考試_三級_地質：水文與工程地質學#142324(7題)

115年 - 115 高等考試_三級_圖書資訊管理：圖書館管理#142323(4題)

115年 - 115 高等考試_三級_環境工程、環保技術、環境檢驗：環境化學與環境微生物學#142322(5題)

115年 - 115 高等考試_三級_資通安全：資通安全防護技術#142321(4題)

7. Which of the following trans complexes would you expect to react most rapidly with CO? (3%)(A) Cr(CO)4(PPh3)2 (B) Cr(CO)4(PPh3)(PBu3) (Bu = n-butyl)(C) Cr(CO)4(PPh3)[P(OMe)3] (D) Cr(CO)4(PPh3)[P(OPh)3

6. Which of the following complexes have18-electron valence configurations? (3%)(A) Ir(CO)Cl(PPh3)2 (B) RhCl(PPh3)3 (C) [Ni(CN)4]2- (D) [V(CO)7]+

5. What is the ground term for the configuration of d8 (Oh symmetry) (3%)(A) 3F4 (B) 5D0 (C) 2T2g (D)2Eg

5. Find the solution of the following equation: (20%)Uxy+2Ux=X , satisfying contion U(0,y)=0, Ux(x,0)=X2

(b) (10%)

(a) (10%)

伊藤-法學緒論全彩圖說

講師：【站僕】摩檸Morning.

陳嘉陽-教育概論(上冊)

講師：【站僕】摩檸Morning.

黃郁文編著-親職教育概要

講師：【站僕】摩檸Morning.

拉曼光譜

描述：拉曼光譜重點 （整理自3版紅膠囊中文版）

飲料調製

描述：飲料調製課本的一些內容以及操作步驟

西瓜汁的東西

描述：西瓜汁的材料

15. To tell the truth ________right. (A) were (B) done (C) is (D) are

16. The red car is ________, not yours. (A) bright (B) old (C) big (D) mine

17. John looks taller________ Peter. (A) than (B) under (C) off (D) between

1. 已知甲乙兩農產品為替代品且產季相同，以下哪一種情形會使甲產品的市場交易價格下降? (A)甲產品供給增加 (B)消費者所得增加 (C)乙產品價格增加 (D)乙產品需求增加

複選題29.某直轄市交通警察大隊收受所轄直屬分隊送交之違反道路交通管理事件後，應做哪些處置？ (A)移送違反道路交通管理事件，應設簿登記或輸入電腦資料檔案，以備查考 (B)應審查該事件填記內容是否符合規定、附件是否齊全 (C)發現不符規定或附件欠缺者，協調補正後再行移送處罰機關 (D)發現內容填記錯誤者，應即日通知被通知人更正 (E)發現內容填記錯誤者，距移送處罰機關之期限未達 3 日之情況急迫時，得經處罰機關核准 後逕為更正

(四)根據歷史數據顯示，該極紫外光曝光機在對每片晶圓進行曝光時，特 定關鍵區域「無微粒缺陷」 (即完全達標合格)的機率為 0.3，且每片 晶圓的檢測結果彼此相互獨立。若該區域出現微粒缺陷，則視為一次 「出錯或失敗」 。工程師為了進行設備耐受度測試，設定曝光機必須直 到累積發生第 2 次「無微粒缺陷」 (合格)時才停止測試。令隨機變數 W 表示在此期間該曝光機所累積的「出錯(失敗)次數」 。請寫出 W 的機率密度函數。