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教育哲學與比較教育

環境部淨零綠領人才培育課程測驗

商用數據應用師

115年 - 115 高等考試_三級_景觀：景觀規劃#142166(5題)

115年 - 115 普通考試_環境工程：水處理工程概要#142165(4題)

115年 - 115 高等考試_三級_景觀：景觀工程#142164(4題)

115年 - 115 普通考試_交通行政：運輸經濟學概要#142163(4題)

115年 - 115 普通考試_金融保險：保險學概要#142162(4題)

115年 - 115 普通考試_檔案管理：檔案數位典藏及資訊系統概要#142161(4題)

115年 - 115 高等考試_三級_工業設計：工業設計概論#142160(4題)

115年 - 115 高等考試_三級_技藝（選試陶瓷）、技藝（選試染織）：藝術概論#142159(4題)

115年 - 115 普通考試_地政：土地法規概要（包括土地登記）#142158(4題)

115年 - 115 高等考試_三級_技藝（選試陶瓷）、技藝（選試染織）：美學#142157(4題)

7. Which of the following trans complexes would you expect to react most rapidly with CO? (3%)(A) Cr(CO)4(PPh3)2 (B) Cr(CO)4(PPh3)(PBu3) (Bu = n-butyl)(C) Cr(CO)4(PPh3)[P(OMe)3] (D) Cr(CO)4(PPh3)[P(OPh)3

6. Which of the following complexes have18-electron valence configurations? (3%)(A) Ir(CO)Cl(PPh3)2 (B) RhCl(PPh3)3 (C) [Ni(CN)4]2- (D) [V(CO)7]+

5. What is the ground term for the configuration of d8 (Oh symmetry) (3%)(A) 3F4 (B) 5D0 (C) 2T2g (D)2Eg

5. Find the solution of the following equation: (20%)Uxy+2Ux=X , satisfying contion U(0,y)=0, Ux(x,0)=X2

(b) (10%)

(a) (10%)

選修化學Ｉ 題目演練

講師：Kai

簡介：108課綱高二上學期內容，涵蓋氧化還原反應式平衡、化學計量、反應熱、氣體定律、理想氣體方程式、分壓定律...

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112年第二次專技 醫事檢驗師 微生物學與臨床微生物學（包括細菌與黴菌）

講師：Feng Ling Yu

簡介：112年第二次專技 醫事檢驗師 微生物學與臨床微生物學（包括細菌與黴菌）解析

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章節：調控釋放藥物產品

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在老人的給藥

課程：藥師一階國考 生物藥劑考題 分章節國考歷屆試題
章節：藥物動力學在臨床上的應用

15. To tell the truth ________right. (A) were (B) done (C) is (D) are

16. The red car is ________, not yours. (A) bright (B) old (C) big (D) mine

17. John looks taller________ Peter. (A) than (B) under (C) off (D) between

複選題28.有關慢車行駛之規定何者正確？ (A)馬車應向直轄市、縣(市)政府辦理登記，領取證照後方可行駛道路 (B)手拉貨車應向直轄市、縣(市)政府辦理登記，領取證照後方可行駛道路 (C)腳踏自行車應經型式審驗合格，始得行駛道路 (D)電動輔助自行車應經檢測及型式審驗合格，並登記、領用、懸掛牌照後，始得行駛道路 (E)微型電動二輪車應經檢測及型式審驗合格，並登記、領用、懸掛牌照後，始得行駛道路

複選題29.某直轄市交通警察大隊收受所轄直屬分隊送交之違反道路交通管理事件後，應做哪些處置？ (A)移送違反道路交通管理事件，應設簿登記或輸入電腦資料檔案，以備查考 (B)應審查該事件填記內容是否符合規定、附件是否齊全 (C)發現不符規定或附件欠缺者，協調補正後再行移送處罰機關 (D)發現內容填記錯誤者，應即日通知被通知人更正 (E)發現內容填記錯誤者，距移送處罰機關之期限未達 3 日之情況急迫時，得經處罰機關核准 後逕為更正

(四)根據歷史數據顯示，該極紫外光曝光機在對每片晶圓進行曝光時，特 定關鍵區域「無微粒缺陷」 (即完全達標合格)的機率為 0.3，且每片 晶圓的檢測結果彼此相互獨立。若該區域出現微粒缺陷，則視為一次 「出錯或失敗」 。工程師為了進行設備耐受度測試，設定曝光機必須直 到累積發生第 2 次「無微粒缺陷」 (合格)時才停止測試。令隨機變數 W 表示在此期間該曝光機所累積的「出錯(失敗)次數」 。請寫出 W 的機率密度函數。