108年 - 108 高等三級材料分析#77936

科目：材料分析 | 年份：108年 | 選擇題數：0 | 申論題數：11

試卷資訊

所屬科目：材料分析

選擇題 (0)

申論題 (11)

⑴請說明 X 光繞射原理。（10 分）

⑵當欲分析的樣品為薄膜時，一般會選用低掠角 X 光繞射儀，請說明其原因。（5 分）

⑶若改以電子束進行繞射，所得繞射結果有何異同？（10 分）

⑴請說明解析度的定義？（5 分）

⑵請說明以上兩種設備之解析度主要決定因素分別為何？（10 分）

⑶請說明以上兩種方式形成原子級解析度影像的機制。（10 分）

⑴請說明其分析原理，（10 分）

⑵ EDS 通常被認為僅能做半定量分析，請說明其原因，（10 分）

⑶如何判斷所得 EDS 數據的好壞？（5 分）

⑴請說明經由 XAS 分析可獲得那些（20 分）

⑵與 EELS 相比，何者能材料訊息，並說明 XAS 的分析原理，分析的能量範圍較大？（5 分）