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試題詳解

試卷:109年 - 109 四技二專統測_機械群_專業科目(二):機械製造、機械基礎實習、製圖實習#85157 | 科目:統測◆01機械群◆(二)機械製造、機械基礎實習、製圖實習

試卷資訊

試卷名稱:109年 - 109 四技二專統測_機械群_專業科目(二):機械製造、機械基礎實習、製圖實習#85157

年份:109年

科目:統測◆01機械群◆(二)機械製造、機械基礎實習、製圖實習

13. 有關新興製造技術的敘述,下列何者正確?
(A) 薄膜製程之氧化法適用於產生非矽質基板的沉積層
(B) 摻雜之目的在不受保護的矽基板上產生 B 型或 C 型半導體
(C) 非等向性蝕刻較等向性蝕刻容易在晶圓上產生過切現象
(D) 晶粒經電路測試完成後,再從晶圓切離
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詳解 (共 1 筆)

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未解鎖
(A)氧化法只能產生與基板相同材質的氧化...
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