14. 針對電鍍銅槽液的管理，可以每週進行 2~3 次化學分析，做為調整及控制的 依據，以下何者並非其常用的檢測工具？
(A)循環式電量去除法(CVS)；
(B)哈氏槽(Halling Cell)；
(C)氧化還原電極電位 法(ORP)；
(D)賀氏槽(Hull Cell)。

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統計： A(22), B(11), C(91), D(12), E(0) #3229118

詳解 (共 1 筆)

#6967093
1. 題目解析 此題目主要針對電鍍銅槽...
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