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公職◆牙體技術學(三)
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113年 - 113 專技高考_牙體技術師:牙體技術學(三)(包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目)#121780
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試題詳解
試卷:
113年 - 113 專技高考_牙體技術師:牙體技術學(三)(包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目)#121780 |
科目:
公職◆牙體技術學(三)
試卷資訊
試卷名稱:
113年 - 113 專技高考_牙體技術師:牙體技術學(三)(包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目)#121780
年份:
113年
科目:
公職◆牙體技術學(三)
35 關於活動局部義齒上顎前後腭帶主連接體的敘述,下列何者錯誤?
(A)前後腭帶之最小寬度為 6 mm
(B)後方腭帶應以不觸及移位性軟腭為原則
(C)中央開放區域範圍最少為 20 × 15 mm
(D)位置正確可降低對發音的干擾
正確答案:
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