36.有關製作可撤式局部義齒時進行主模型封凹（blockout）與緩壓（relief）的處理，下列敘述何者錯誤？ (A)一般常使用蠟作為封凹的材料 (B)缺後牙的局部義齒製作，上顎唇側前庭倒凹區的封凹處理，屬於任意式封凹處理 (C)模型上牙齒的析量線（survey line）以下所有倒凹區，均須進行封凹處理 (D)模型上缺牙區貼透明緩壓蠟時，應距離支柱牙牙齦邊緣1.5mm以上