39 標記全口活動義齒個人模托（custom tray）之外形線時，下列敘述何者錯誤？ (A)以解剖學印模法進行印模時，應與義齒基底外形線一致 (B)以機能性印模法進行印模時，應比義齒基底外形線約短 2-3 毫米 (C)上顎的腭後緣部位要製作後障（post dam），應比義齒基底外形線稍微加長 (D)下顎的臼齒後墊（retromolar pad）部位要進行緩壓（relief），應比義齒基底外形線稍微縮短