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公職◆牙體技術學(三)
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110年 - 110 專技高考_牙體技術師:牙體技術學(三)(包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目)#100625
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試卷資訊
試卷名稱:
110年 - 110 專技高考_牙體技術師:牙體技術學(三)(包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目)#100625
年份:
110年
科目:
公職◆牙體技術學(三)
46 活動局部義齒樹脂煮聚完成後,自石膏模型取下必須經適當之清理、研磨及拋光,下列之處理方式何 者錯誤?
(A)大塊之石膏塊可以手工去除,再置入石膏溶解液中以超音波振盪清除細部石膏殘留
(B)以尖鋭刀片清除並確定牙鈎(clasp)及鈎靠(rest)內側無殘留的樹脂
(C)義齒拋光面(polishing surface)的金屬與樹脂要適當之研磨及拋光,組織面(tissue surface)則不可 拋光
(D)最後放置於清水中用超音波振盪清除殘留研磨及拋光材,之後擦乾放置在真空保存袋中送回牙醫師處
正確答案:
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詳解 (共 1 筆)
Oo
B2 · 2025/03/21
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未解鎖
(D) 最後放置於清水中用超音波振盪清除...
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