阿摩線上測驗
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一、一項新光阻塗覆製程被使用於製造積體電路的 125 毫米晶片的生產。 挑 10 片晶片測試，測量的光阻厚度（單位：埃×1000）如下：13.3987、 13.3957、13.3902、13.4015、13.4001、13.3918、13.3965、13.3925、 13.3946 及 13.4002。
(一)請檢定厚度平均為 13.4×1000 Å 的假設。請使用 α=0.05，並說明其雙邊對立假設。