題組內容

五、X-光繞射技術常被用來鑑定材料之結構。使用波長（λ）為 0.154 nm之X光為光源，對 某一試樣進行分析，在角度（θ）為 20o 處可發現繞射峰。

【題組】⑵此材料為體心立方（bcc）結構，此在θ = 20o 之繞射峰為（110）面所形成。請繪出體心立方結構之晶格，並標示出此（110 ）面。（15 分）