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申論題

試卷：96年 - 96 專利商標審查特種考試_三等_電子工程、光電工程：半導體製程#49315
科目：半導體製程
年份：96年
排序：0

申論題資訊

試卷：96年 - 96 專利商標審查特種考試_三等_電子工程、光電工程：半導體製程#49315
科目：半導體製程
年份：96年
排序：0

申論題內容

五、請以剖面圖（cross section）敘述在矽晶圓（Si wafer）上製作 CMOS 元件之基本 製程步驟。（20 分）