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核能概論
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97年 - 97 高等考試_三級_核子工程:核能概論#40369
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題組內容
五、請說明下列組件或系統屬於壓水式反應器或沸水式反應器(或者兩者都有),並說 明其主要功能:
⑷ 飼水加熱器(feedwater heater)(3 分)
相關申論題
⑴ 輻射之間接效應(indirect effect)(3 分)
#124006
⑵ 輻射之確定效應(non-stochastic effect)(3 分)
#124007
⑶ 輻射防護之 ALARA 理念(4 分)
#124008
七、核電廠反應器爐心內具有大量過量反應度(excess reactivity),因此必須利用適當 的方法,將可大量吸收中子的物質置入爐心,以平衡過量反應度,請問通常採用的 置入方法及其優缺點為何?(10 分)
#124009
八、負載追隨(load following)是反應器的重要特性,請問壓水式反應器是否具有負載追 隨的特質?其機制為何?沸水式反應器在不加控制的條件下,是否具有負載追隨的 能力?為什麼?又現今之沸水式反應器是如何達到負載追隨的要求?(10 分)
#124010
二、請說明何謂直接能隙(direct bandgap)?何謂間接能隙(indirect bandgap)?砷化 鎵是那一種能隙的材料?(10 分)
#124012
三、以強光照射一 n 型半導體晶片表面,請繪出從表面到晶片深處的能帶圖,包括導帶、 價帶、電子和電洞的準費米能階(quasi-Fermi level)。(15 分)
#124013
五、請說明如何從順向偏壓的電流-電壓特性,計算金屬-半導體接面的蕭基位障(Schottky barrier)高度。(15 分)
#124015
六、請畫出Metali/SiO2/p-type Si在accumulation, depletion, inversion三種狀態的能帶圖。 (15 分)
#124016
七、一層厚度 100 nm 的矽薄膜,如果要用氧化的方式,將 Si 厚度減薄到 50 nm,請問 需要成長多厚的氧化層?(10 分)
#124017
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