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1.程試設計；2.資料庫系統；3.資訊網路工程；4.計算機結構

空氣污染防制

1.會計學(含IFRS、會計準則公報)；2.稅務及商事法規(與會計業務有關者)

115年 - 115 外交特種考試_三等_外交領事人員類科各組：綜合法政知識（包括中華民國憲法、兩岸關係、比較政府與政治）#144514(50題)

115年 - 115 原住民族特種考試_四等_財稅行政：稅務法規概要#144513(27題)

115年 - 115 原住民族特種考試_四等_經建行政：統計學概要#144512(9題)

115年 - 115 原住民族特種考試_四等_一般行政：政治學概要#144511(27題)

115年 - 115 外交特種考試_四等_外交行政人員類科行政組：國文（作文與測驗）#144510(12題)

115年 - 115 原住民族特種考試_四等_一般民政：地方自治概要#144509(27題)

115年 - 115 原住民族特種考試_五等_各類科：國文#144508(50題)

115年 - 115 原住民族特種考試_三等_衛生行政：流行病學與生物統計學#144507(4題)

115年 - 115 外交特種考試_四等_外交行政人員類科行政組：國際關係與國際現勢#144506(27題)

115年 - 115 外交特種考試_四等_外交行政人員類科行政組：行政學概要#144505(27題)

7. Which of the following trans complexes would you expect to react most rapidly with CO? (3%)(A) Cr(CO)4(PPh3)2 (B) Cr(CO)4(PPh3)(PBu3) (Bu = n-butyl)(C) Cr(CO)4(PPh3)[P(OMe)3] (D) Cr(CO)4(PPh3)[P(OPh)3

6. Which of the following complexes have18-electron valence configurations? (3%)(A) Ir(CO)Cl(PPh3)2 (B) RhCl(PPh3)3 (C) [Ni(CN)4]2- (D) [V(CO)7]+

5. What is the ground term for the configuration of d8 (Oh symmetry) (3%)(A) 3F4 (B) 5D0 (C) 2T2g (D)2Eg

5. Find the solution of the following equation: (20%)Uxy+2Ux=X , satisfying contion U(0,y)=0, Ux(x,0)=X2

(b) (10%)

(a) (10%)

特殊教育法施行細則

講師：Mark

簡介：本課程是特殊教育法施行細則

刑事訴訟法

講師：Mark

簡介：裡面都有講到一些法規，本課程是刑事訴訟法

郵局短文寫作批改線上課程

講師：台中大雅家教-睿智數學及英文家教，王瑞志老師

簡介：提供郵局國文-短文寫作批改線上課程，有老師提供6篇範文供參考。 #寫作批改 #郵局國文 #短文寫作 #作文 #郵...

教育心理學 皮亞杰

描述：教育心理學 皮亞杰

愛考ABC、123

描述：路權詳解、事故等級

公共人力資源管理

描述：弱勢優惠行動方案vs考績制

15. To tell the truth ________right. (A) were (B) done (C) is (D) are

16. The red car is ________, not yours. (A) bright (B) old (C) big (D) mine

17. John looks taller________ Peter. (A) than (B) under (C) off (D) between

1. 已知甲乙兩農產品為替代品且產季相同，以下哪一種情形會使甲產品的市場交易價格下降? (A)甲產品供給增加 (B)消費者所得增加 (C)乙產品價格增加 (D)乙產品需求增加

複選題29.某直轄市交通警察大隊收受所轄直屬分隊送交之違反道路交通管理事件後，應做哪些處置？ (A)移送違反道路交通管理事件，應設簿登記或輸入電腦資料檔案，以備查考 (B)應審查該事件填記內容是否符合規定、附件是否齊全 (C)發現不符規定或附件欠缺者，協調補正後再行移送處罰機關 (D)發現內容填記錯誤者，應即日通知被通知人更正 (E)發現內容填記錯誤者，距移送處罰機關之期限未達 3 日之情況急迫時，得經處罰機關核准 後逕為更正

(四)根據歷史數據顯示，該極紫外光曝光機在對每片晶圓進行曝光時，特 定關鍵區域「無微粒缺陷」 (即完全達標合格)的機率為 0.3，且每片 晶圓的檢測結果彼此相互獨立。若該區域出現微粒缺陷，則視為一次 「出錯或失敗」 。工程師為了進行設備耐受度測試，設定曝光機必須直 到累積發生第 2 次「無微粒缺陷」 (合格)時才停止測試。令隨機變數 W 表示在此期間該曝光機所累積的「出錯(失敗)次數」 。請寫出 W 的機率密度函數。