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研究所、轉學考(插大)◆風格寫作

研究所、轉學考(插大)◆科學教育（概論）

研究所、轉學考(插大)◆電子計算機

115年 - 110 國立臺北大學_碩士班一般入學考試試題_企業管理學系甲組：統計學#146951(6題)

115年 - [無官方正解]115 國立臺北大學_碩士班一般入學考試試題_會計學系：審計學#146950(26題)

115年 - 115 經濟部所屬事業機構_新進職員甄試試題_資訊： 1 .計算機原理 2 .網路概論#146946(50題)

115年 - 115 經濟部所屬事業機構_新進職員甄試試題_政風：1 .刑法 2 .刑事訴訟法#146945(8題)

115年 - 115 經濟部所屬事業機構_新進職員甄試試題_統計資訊：1 .統計學 2 .巨量資料概論#146943(50題)

【已刪除】115年 - 115 經濟部所屬事業機構_新進職員甄試試題_資通安全： 1 .資通安全管理 2 .資通安全防護技術#146941(0題)

115年 - 115 國立臺北大學_碩士班一般入學考試試題_不動產與城鄉環境學系：測量#146940(7題)

115年 - 115 國立臺北大學_碩士班一般入學考試試題_金融與合作經營學系：經濟學#146932(7題)

115年 - 115 國立臺北大學_碩士班一般入學考試試題_不動產與城鄉環境學系：地理資訊系統#146931(4題)

【已刪除】115年 - 115 經濟部所屬事業機構_新進職員甄試試題_國貿：2 .國際貿易法規及實務#146929(0題)

60. 下列對礫岩分類之描述何者正確 (A) 巨礫或中礫係依組織大小 (B) 石灰質或燧質礫岩係依組成 (C) 鈣質或矽質礫岩則依其膠結物 (D) 以上皆是

59. 對浮石(Pumice)的下列描述何者為正確 (A) 岩質輕 (B) 酸性玻璃質 (C) 多呈同心圓狀 (D) 以上皆是

58. 火成岩若其二氧化矽平均含量低於50%可能為 (A) 中性岩 (B) 基性岩 (C) 酸性岩 (D) 以上皆是

十、訴訟行為與私法行為常混淆不清，請論述在訴訟上行使私法上形成權(撤銷權、抵銷權、解除權)所生之爭議與效果。(10分)

九、調解、仲裁與訴訟之間有何區別?(10分)

八、請說明公務員拒絕證言與拒絕提出文書權之異、同。(10分)

國高中職國文

講師：Terry Tung

簡介：整合國中會考、統測、學測國文試題

藥理藥化完整分章節講義&題目

講師：Pharmaseed大豆芽

簡介：收錄最完整的藥理藥化分章節題目與課程講義 根據國考重點來編排單元

用故事看Porter的策略管理

講師：bill3701191

簡介：用故事輕鬆看懂Porter提出的產業結構的五力分析、企業內部的價值鏈及國家競爭力之鑽石模型

1-2 多項式與其加減運算

課程：國二上 數學 康軒版
章節：【八上】第一章 乘法公式與多項式

1-3 多項式的乘除運算

課程：國二上 數學 康軒版
章節：【八上】第一章 乘法公式與多項式

2-1 平方根與近似值

課程：國二上 數學 康軒版
章節：【八上】第二章 平方根與畢氏定理

7. 大股東持股計算不包括下列何者之持股？ (A)配偶 (B)未成年子女 (C)成年子女 (D)利用他人名義持有者

3 若甲國在生產商品 B 具比較利益，而乙國在生產商品 A 具比較利益，一旦兩國依循比較利益與專業 分工原則進行貿易，下列敘述何者正確？ (A)兩國內之 A、B 產業皆將同時受益 (B)兩國內之 A、B 產業皆將同時受害 (C)甲國之 A 產業將受益，B 產業則受害；乙國之 A 產業將受害，B 產業則受益 (D)甲國之 A 產業將受害，B 產業則受益；乙國之 A 產業將受益，B 產業則受害

4 假設晶片生產過程必須經歷設計與製造兩階段，才能創造出價值 1 元的完整晶片商品，而任一單獨 的設計或製造過程，則皆無任何市場價值。如果甲公司設計一個晶片需 2 小時，製造一個晶片則需 1 小時；而乙公司設計一個晶片需 3 小時，製造一個晶片則需 2 小時。假設兩公司 1 週各可工作 45 個 小時，則兩公司透過比較利益原則與專業分工合作下，可較其各自獨立生產下額外增加_______之最大共同產值。(A)5個 (B)3個 (C)1個 (D)0個

14. 公司內部人員無法藉由內線消息而獲取超額報酬時，表示此時市場屬於： (A)半弱式效率市場 (B)弱式效率市場 (C)半強式效率市場 (D)強式效率市場

72. 老人住宅之居住單元超過十四戶或受服務之老人超過二十人者，應至少提供一處交誼室，其中一處交誼室之樓地板面積不得小於多少平方公尺，並應附設廁所？ (A)30 (B)40 (C)50 (D)60 。

32. 四衝程柴油機的元件中，其中活塞栓裂紋檢測工作時，最多允許表面有多少條縱向發紋？ (A)不允許有橫向斷紋 (B)允許有數量不多 於2條的縱向發紋，但同一截面上不得多於2條 (C)允許有數量不多於3條的縱向發紋，但同一截面上不得多於2條 (D)允許有數量不 多於5條的縱向發紋，但同一截面上不得多於2條