96年 - 96 專技高考_冶金工程技師：材料分析技術#37104

科目：技師◆材料分析技術 | 年份：96年 | 選擇題數：0 | 申論題數：5

試卷資訊

所屬科目：技師◆材料分析技術

選擇題 (0)

申論題 (5)

一、有一個面積 2×2 平方公分（cm² ）大小的矽（100）晶片，其厚度為 150 微米，為增加導電度，在 1 立方公分（cm³ )的體積內，加入 1×10¹⁷個雜質原子（impurity atom），此雜質可能是硼或磷，若要你負責鑑定此雜質到底是那一種，請你選用兩種材料分析技術來鑑定，並請簡述其分析原理？（20 分）

二、有一合金鋼粉末，其化學成份包括鉻（Cr）以及鐵（Fe），此合金鋼的結構有可能是體心立方（body centered cubic），或是面心立方（face centered cubic）結構，請你選用 X 光繞射分析技術的粉末繞射法（Debye Scherrer method）來鑑定是那一種結構，在實驗底片上會有很多條繞射線條，請說明你如何從繞射線條的排列方式，判斷此合金鋼粉末的晶體結構？（20 分）

三、你在一家鍍膜公司的研發部門工作，負責濺鍍一層氮化鈦（TiN）在厚度為 100 微米的不鏽鋼（stainless steel）基板上，假設此氮化鈦的厚度很均勻，但只知其厚度在 20-50 奈米之間，若要你準確量測氮化鈦的厚度，誤差小於 3 奈米，請你選用兩種材料分析技術來鑑定，並請簡述其分析原理？（20 分）

四、有一片導電玻璃，是在玻璃基板上鍍一層銦錫氧化物（Indium Tin oxide），此銦錫氧化物的厚度為 10 奈米，若只要定性量測此銦錫氧化物與玻璃基板的接合強度，你會選用那種材料分析技術來測量，請簡述量測原理？（20 分）

五、在量測材料晶體的晶格常數（lattice constants）時，X 光繞射的量測值比電子繞射的量測值要準確，請問是什麼因素造成此結果？（20 分）