97年 - 97 專技高考_冶金工程技師：材料分析技術#37378

科目：技師◆材料分析技術 | 年份：97年 | 選擇題數：0 | 申論題數：16

試卷資訊

所屬科目：技師◆材料分析技術

選擇題 (0)

申論題 (16)

【已刪除】一、以下是 3 種不同狀態銅薄膜的 X 光繞射圖譜，圖譜中 2θ 範圍為 45°-54°及 88°-97°，並顯示出3 種狀態銅晶面米勒指標（hkl）200、311、222 的繞射峰，虛線則為輔助觀察之用，銅薄膜的狀態為：初鍍膜（As-deposited）及於530°C 與 800°C 分別退火（Annealed）1 小時。試問從此 X 光繞射圖譜可獲得那些銅薄膜的材料訊息。（25 分）

1. 19.89°

2. 22.36°

3. 23.14°

4. 32.54°

5. 33.76°

6. 40.67°

7.41.21°，

8. 42.89°

9.49.53°

10. 58.27°。

⑴請以圖示與文字說明可用於材料分析與觀察之用的訊號產生區域。（15 分）

⑵請以圖示與文字說明各訊號的相對解析度（resolution），如：何者最佳、最差。（10 分）

四、⑴表面化學分析常會用到縱深分析（depth profile），如何進行縱深分析？縱深分析有何副作用？縱深分析所得的結果通常與何種時間有關？舉例說明之。（9 分）

⑵為何表面分析（如 Auger、XPS）通常需要在超高真空（ultra high vacuum）中進行？（8 分）

⑶試述聚焦離子束（focused ion beam）的原理及用途。（8 分）