試題詳解

試卷：99年 - 99 四技二專統測_機械群_專業科目(二)：機械製造、機械基礎實習、製圖實習#97869 | 科目：統測◆01機械群◆(二)機械製造、機械基礎實習、製圖實習

試卷名稱：99年 - 99 四技二專統測_機械群_專業科目(二)：機械製造、機械基礎實習、製圖實習#97869

年份：99年

科目：統測◆01機械群◆(二)機械製造、機械基礎實習、製圖實習

14. 半導體製程中，一般所謂的 90 奈米製程係指：
(A) 線寬為 0.009μm
(B) 線寬為 0.09μm
(C) 膜厚為 0.009μm
(D) 膜厚為 0.09μm

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