14. 半導體製程中，一般所謂的 90 奈米製程係指：
(A) 線寬為 0.009μm
(B) 線寬為 0.09μm
(C) 膜厚為 0.009μm
(D) 膜厚為 0.09μm 

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統計： A(21), B(83), C(16), D(18), E(0) #2678032