試題詳解

16. 下列關於專利審查制度之敘述，何者不正確？
(A)新型專利僅有形式審查，故無自申請日後三年內申請實體審查之 規定，發明專利與設計專利則必須申請實體審查；
(B)發明及新型專利經審查涉及國防機密或其他國家安全之機密者， 應諮詢國防部或國家安全相關機關意見；
(C)發明及設計專利申請人對於不予專利之審定有不服者，得於審定 書送達後二個月內備具理由書，申請再審查，但對申請程序不受 理之處分以及新型專利不予專利處分，則可逕提行政救濟；
(D)發明專利申請案已申請實體審查者，該實體審查不得撤回。