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試題詳解

試卷：105年 - 105 四技二專統測_機械群_專業科目(二)：機械製造#55703 | 科目：統測◆01機械群◆(二)機械製造、機械基礎實習、製圖實習

試卷資訊

試卷名稱：105年 - 105 四技二專統測_機械群_專業科目(二)：機械製造#55703

年份：105年

科目：統測◆01機械群◆(二)機械製造、機械基礎實習、製圖實習

2. 有關半導體光學微影製程步驟：A 光阻曝光、B光阻塗佈、C光阻顯影，下列製程順序何者 正確？
(A) BCA
(B) ABC
(C) CAB
(D) BAC
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詳解 (共 2 筆)

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