2. 有關半導體光學微影製程步驟：A 光阻曝光、B光阻塗佈、C光阻顯影，下列製程順序何者 正確？
(A) BCA
(B) ABC
(C) CAB
(D) BAC

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統計： A(120), B(34), C(58), D(403), E(0) #1407419

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#2258637
半導體製程 薄膜沉積>微影>...
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#1549821
光阻塗佈 -->對準與曝光--&g...
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