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試題詳解

試卷：110年 - 110-2 初級電路板製程工程師能力鑑定_第二科:電路板製造概論#107858 | 科目：電路板製造概論

試卷資訊

試卷名稱：110年 - 110-2 初級電路板製程工程師能力鑑定_第二科:電路板製造概論#107858

年份：110年

科目：電路板製造概論

36. 曝光製程中，曝光能量 E 隨燈光強度 I 和時間 t 而變化，其中燈光強度 I 一般為固定值。試問當燈光強度 I = 10 mw/cm2，且濕墨光阻曝光能量需要 100 mj/cm2，則所 需要曝光時間為何？
曝光能量公式：E=It 
 E：總曝光能量(mj/cm2)
 I：燈光強度(mw/cm2) 
 T：曝光時間(sec)
(A) 10 sec；
(B) 100 sec；
(C) 1000 sec；
(D) 10000 sec
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