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試卷名稱：114年 - 114 教育部自學進修專科學校學力鑑定考試試題_核能工程、工業衛生安全、 消防工程、工業安全衛生：物理#137311
年份：114年
科目：專科學力鑑定◆專(一、二)：化學＋物理
47. 在楊氏雙縫干涉實驗中，使用單色光源，雙縫間距為 d ，屏幕距離為 L，波長為λ 。 若在實驗中將整個裝置浸入折射率為 n 的透明介質中，則關於干涉條紋的敘述，下列 何者正確？
(A) 條紋消失，因為光在介質中不再具有波動性
(B) 條紋間距將縮小為 L / λ dn
(C) 條紋間距將增大為 L / λn d
(D) 條紋間距與原本相同，因為雙縫結構沒有改變