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試題詳解

試卷：114年 - 04202 測量─工程測量 乙級 工作項目 01：測繪資料分析 51-120（2025/10/28 更新）#132654 | 科目：技檢◆測量-工程測量-乙級

試卷資訊

試卷名稱：114年 - 04202 測量─工程測量 乙級 工作項目 01：測繪資料分析 51-120（2025/10/28 更新）#132654

年份：114年

科目：技檢◆測量-工程測量-乙級

74. 於電子經緯儀之光柵度盤測角系統中，其於光學玻璃上依一定密度及方向均勻交替刻劃透明與不透明輻射狀線條，如將兩塊刻劃密度相同之光柵度盤重疊，並使其刻劃相互傾斜一個很小的角度，此時就會產生明暗相間的條紋，此稱為
(A)斯涅爾條紋
(B)莫爾條紋
(C)高斯條紋
(D)邁克森條紋 。

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詳解 (共 2 筆)

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