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半導體工程
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110年 - 110 高等考試_三級_電子工程:半導體工程#102616
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題組內容
二、一般 p-n 二極體的等效電路模型如下圖所示,
(二)請說明兩個電阻
的來源為何?
相關申論題
一、(一)何謂歐傑複合(Auger recombination)效應?它通常發生於何種狀況?
#432539
(二)由 p 型矽(Si)半導體與銅(Cu)形成蕭特基接面(Schottky junction) , 假如銅的功函數(work function, qXm)為 4.5 eV,矽的電子親和力 (electron affinity, qXSi)為 4.05 eV,矽的能隙為 1.12 eV,矽的 功函數(work function, qφSi)為 4.9 eV。請計算此蕭特基接面的能障值 (barrier height, qφB)與內建電位值(built-in potential, )。
#432564
(一)在順向偏壓下,請說明兩個電容 C1 和 C2 的來源為何?
#432540
三、(一)對一工作於主動模式(active mode)的 npn 雙極性電晶體,假設基極 對射極的偏壓為 ,基極寬度為 遠小於電子的擴散長度, 且電子在基極的擴散係數為 ,電子電荷為 q。今電子由射極進入基極,在射極與基極的電子濃度為 ,在基極與集極的電子濃度為 ,請寫出在基極的電子電流密度方程式。
#432542
(二)通常較高值的厄利電壓(Early voltage, VA)可以得到較高值的電壓增 益。如果我們以下列三種方式設計雙極性電晶體以增加厄利電壓:1. 增加基極寬度,2.增加基極濃度,3.減少集極濃度,請說明那一種方式可以得到較高值的電流增益(β)?請說明理由。
#432569
四、(一)以短通道(short channel)的金氧半場效電晶體(MOSFET)為例,請說明短通道長度對臨界電壓的影響。
#432543
(二)以金氧半場效電晶體為例,請說明次臨界電流(subthreshold current) 的定義。
#432570
五、(一)和化學氣相沉積(atomic layer deposition, ALD)技術相比較,請說明 原子層沉積技術的優點與缺點。
#432544
(二)請解釋電遷移(electromigration)現象,並說明如何改善此現象。
#432580
五、隨著技術節點持續微縮,曝光技術亦不斷演進。請說明自曝光波長λ=248 nm KrF 以降,至鰭式場效電晶體(FinFET)時代,如何運用各種 不同的曝光技術與圖案化方法來實現更微小的電路圖案。(20 分)
#560352
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