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申論題資訊

試卷:110年 - 110 鐵路特種考試_高員三級_電子工程:半導體工程#101633
科目:半導體工程
年份:110年
排序:0

申論題內容

六、為什麼在矽局部氧化形成時,氧化薄膜會向矽基板內生長?請計算其比 例(以未成長時之表面當參考位置)。(15 分)