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113年 - 113 高等考試_三級_電子工程:半導體工程#121484
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申論題
試卷:113年 - 113 高等考試_三級_電子工程:半導體工程#121484
科目:半導體工程
年份:113年
排序:0
申論題資訊
試卷:
113年 - 113 高等考試_三級_電子工程:半導體工程#121484
科目:
半導體工程
年份:
113年
排序:
0
申論題內容
四、矽半導體 n 通道金屬-氧化物 -半導體場效電晶體(MOS-FET)之閘極長度 L = 1.25 μm、電子遷移率 μ
n
= 650 cm
2
/V-s、臨界電壓 V
th
= 0.65 V、 閘極氧化層電容 C
ox
= 6.9 × 10
-8
F/cm
2
,且測得在閘-源極偏壓 V
GS
= 5 V 之汲極飽和電流(I
D, sat
)值為 8 mA。試求閘極寬度(W)為何?(20 分)