題組內容

三、在一 P 型矽基板上，如以一 2P2M N-well（N-井）CMOS 製程為例，完成以下元件 之相關問題：

⑵如擬完成上述電阻之製作，考量到金屬層（M1）的連線，至少需要幾道光罩 （mask）？請按合理的製程先後次序，依序寫下這些光罩層的名稱與其使用目的。 （15 分）