申論題 - 阿摩線上測驗

申論題資訊

試卷：101年 - 101 地方政府特種考試_三等_電子工程：半導體工程#39546
科目：半導體工程
年份：101年
排序：0

四、在半導體曝光顯影製程中，對於所使用的光阻（photo resist）：

⑵採用正光阻製程，若要製作一凸起之 I 字型光阻圖案，請繪出所設計光罩圖型示意圖（以斜線代表暗區，空白代表亮區表達）。（10 分）