試卷名稱：113年 - 113-2 初級電路板製程工程師能力鑑定_第二科:電路板製造概論#125671
年份：113年
科目：電路板製造概論
33.影像轉移製程中非常重要的乾膜光阻劑，其材料特性的敘述，下列何者有誤？(A)乾膜光阻劑是一種光能量硬化的高分子；(B)應用於內層的乾膜厚度一般為1mil；(C)影響其硬化的光是紅外光線；(D)影像轉移製程需在黃光室作業，主要是黃光室的照明是去除了紫外光
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