題組內容

六、一般的化學溶液蝕刻劑都是等向性蝕刻劑(isotropic etchant),會往所有方向均勻 地蝕刻,造成圓角的截面特徵。相對地,非等向性蝕刻劑(anisotropic etchant)比 較喜歡在一個方向上蝕刻,造成由平坦且明確定義的表面所界定的壕溝或腔體。氫 氧化鉀(KOH)是截至目前最常使用之矽的非等向性蝕刻劑。

⑴那一個結晶平面是 KOH 蝕刻速率特別低的平面?(5 分)