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化學反應工程學
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96年 - 96 專利商標審查特種考試_三等_一般化工:化學反應工程學#38207
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申論題
試卷:96年 - 96 專利商標審查特種考試_三等_一般化工:化學反應工程學#38207
科目:化學反應工程學
年份:96年
排序:0
申論題資訊
試卷:
96年 - 96 專利商標審查特種考試_三等_一般化工:化學反應工程學#38207
科目:
化學反應工程學
年份:
96年
排序:
0
申論題內容
五、四氫化矽(SiH
4
)經化學氣相蒸鍍反應,可在矽種晶上生長為矽粒,其反應速率式 為 r" = k"C
SiH4
,k" = 10 cm/min。假設矽粒形狀為球體,矽密度為 2.33 g/cm
3
,分子 量為 32,請問在 T = 200℃和 P
SiH4
= 0.1 atm 反應條件下,矽粒由 2µm 成長至 15µm 需要多少時間?(20 分)