申論題 - 阿摩線上測驗

申論題資訊

試卷：103年 - 103 高等考試_三級_電子工程：半導體工程#39515
科目：半導體工程
年份：103年
排序：0

五、說明離子佈植（ion implantation）的基本原理。以離子佈植植入雜質的方法與擴散法比較有何優點？離子佈植後為何需要熱處理？說明離子佈植的通道效應（channeling effect），舉出一種消除的方法。（15 分）