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申論題資訊

試卷:94年 - 94 地方政府特種考試_三等_電子工程:半導體工程#40578
科目:半導體工程
年份:94年
排序:0

題組內容

九、在標準狀況(壓力為 1 atm,溫度為 0℃)下的電漿蝕刻過程中,反應氣體以 10 c.c./秒 的速率流入 100 公升的反應腔室中,產生的穩態壓力為 0.2 托(torr),

申論題內容

(二)計算反應腔室中,一個氣體分子的殘餘時間(residence time)?(10 分)