題組內容

七、假設以熱氧化製程形成二氧化矽（SiO 2 ），其相關參數值表列如下：（每小題 10 分，共 20 分）

⑵如欲成長厚度為 100 nm 之二氧化矽層膜，需消耗矽之厚度為？