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115年 - 115 高等考試_二級_土木工程:高等鋼筋混凝土學與設計#145838(4題)
115年 - 115 高等考試_二級_水利工程:高等流體力學#145837(10題)
115年 - 115 高等考試_二級_土木工程:高等工程力學(包括材料力學)#145836(8題)
115年 - 115 高等考試_二級_衛生技術:生物統計學#145835(4題)
115年 - 115 高等考試_二級_機械工程:機械設計學#145834(16題)
115年 - 115 高等考試_二級_水利工程:高等水文學#145833(4題)
115年 - 115 高等考試_二級_生物多樣性:生物多樣性科學研究#145832(19題)
115年 - 115 高等考試_二級_機械工程:機械製造學#145831(12題)
115年 - 115 高等考試_二級_衛生行政(一般組):流行病學與生物統計學研究#145830(14題)
115年 - 115 高等考試_二級_金融保險:貨幣銀行學研究#145829(9題)
最新試題
7. Which of the following trans complexes would you expect to react most rapidly with CO? (3%)(A) Cr(CO)4(PPh3)2 (B) Cr(CO)4(PPh3)(PBu3) (Bu = n-butyl)(C) Cr(CO)4(PPh3)[P(OMe)3] (D) Cr(CO)4(PPh3)[P(OPh)3
6. Which of the following complexes have18-electron valence configurations? (3%)(A) Ir(CO)Cl(PPh3)2 (B) RhCl(PPh3)3 (C) [Ni(CN)4]2- (D) [V(CO)7]+
5. What is the ground term for the configuration of d8 (Oh symmetry) (3%)(A) 3F4 (B) 5D0 (C) 2T2g (D)2Eg
最新申論題
5. Find the solution of the following equation: (20%)Uxy+2Ux=X , satisfying contion U(0,y)=0, Ux(x,0)=X2
(b) (10%)
(a) (10%)
最新課程
AI初級-科目1-L11101 AI的定義與分類
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ABEL WANG
簡介:
iPAS◆AI應用規劃師◆初級課程主要分為科目1:L11人工智慧基礎概論(9個單元),科目2:生成式 AI應用與規劃(7個...
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延續 108 課綱規劃,聚焦於更進一步的核心主題,包括 原子結構與週期表趨勢、化學鍵與分子形狀、化學平衡與...
刑法總則(上)
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本課程將結合筆者的考試經驗,將以條列式的方式幫您整理每個法條的重點所在,也會利用歷屆試題幫考生快速複...
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國中數學觀念統整
描述:
此為國中數學的觀念整理 不過是舊教材的 但新教材與舊教材差異不大 所以還是有參考價值 歡迎有需要的人...
編表-綜合損益表
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會計學(含中級會計學)
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企業期末會計處理
會考地理單元1
描述:
會考一起加油吧~
最新討論
15. To tell the truth ________right. (A) were (B) done (C) is (D) are
16. The red car is ________, not yours. (A) bright (B) old (C) big (D) mine
17. John looks taller________ Peter. (A) than (B) under (C) off (D) between
複選題28.有關慢車行駛之規定何者正確? (A)馬車應向直轄市、縣(市)政府辦理登記,領取證照後方可行駛道路 (B)手拉貨車應向直轄市、縣(市)政府辦理登記,領取證照後方可行駛道路 (C)腳踏自行車應經型式審驗合格,始得行駛道路 (D)電動輔助自行車應經檢測及型式審驗合格,並登記、領用、懸掛牌照後,始得行駛道路 (E)微型電動二輪車應經檢測及型式審驗合格,並登記、領用、懸掛牌照後,始得行駛道路
複選題29.某直轄市交通警察大隊收受所轄直屬分隊送交之違反道路交通管理事件後,應做哪些處置? (A)移送違反道路交通管理事件,應設簿登記或輸入電腦資料檔案,以備查考 (B)應審查該事件填記內容是否符合規定、附件是否齊全 (C)發現不符規定或附件欠缺者,協調補正後再行移送處罰機關 (D)發現內容填記錯誤者,應即日通知被通知人更正 (E)發現內容填記錯誤者,距移送處罰機關之期限未達 3 日之情況急迫時,得經處罰機關核准 後逕為更正
(四)根據歷史數據顯示,該極紫外光曝光機在對每片晶圓進行曝光時,特 定關鍵區域「無微粒缺陷」 (即完全達標合格)的機率為 0.3,且每片 晶圓的檢測結果彼此相互獨立。若該區域出現微粒缺陷,則視為一次 「出錯或失敗」 。工程師為了進行設備耐受度測試,設定曝光機必須直 到累積發生第 2 次「無微粒缺陷」 (合格)時才停止測試。令隨機變數 W 表示在此期間該曝光機所累積的「出錯(失敗)次數」 。請寫出 W 的機率密度函數。