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108年 - 108 地方政府特種考試_三等_電子工程:半導體工程#81604
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申論題
試卷:108年 - 108 地方政府特種考試_三等_電子工程:半導體工程#81604
科目:半導體工程
年份:108年
排序:0
申論題資訊
試卷:
108年 - 108 地方政府特種考試_三等_電子工程:半導體工程#81604
科目:
半導體工程
年份:
108年
排序:
0
題組內容
三、請回答下列問題:
申論題內容
(二)設有 NMOS 元件與 PMOS 元件各一個,它們的閘極氧化層(gate oxide) 中同樣都存在有 10
11
cm
-2
的可移動離子電荷,現將此兩元件同置放在 高溫中啟動(turned on)數個小時,試問那一個元件的臨界電壓受影 響會較大?並說明理由。(10 分)