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申論題資訊

試卷:107年 - 107 高等考試_三級_電子工程:半導體工程#71146
科目:半導體工程
年份:107年
排序:0

題組內容

一、半導體材料矽(Si)及砷化鎵(GaAs) :

申論題內容

⑵請說明兩者之能帶圖結構各為直接能隙(direct bandgap)或間接能隙(indirect bandgap)?(10 分)

詳解 (共 1 筆)

詳解 提供者:hchungw


矽(Si)和砷化鎵(GaAs)在其能帶結構上有明顯的差異,這影響了它們在電子和光學應用中的性能:

矽(Si):

矽是一種間接能隙半導體。
在間接能隙半導體中,導帶的最低能量點和價帶的最高能量點在k空間(動量空間)中的位置不一致。這意味著電子從價帶跳躍到導帶不僅需要能量的改變,還需要動量的轉移。因此,這種躍遷通常需要借助晶格振動(如聲子)來完成。
砷化鎵(GaAs):

砷化鎵是一種直接能隙半導體。
在直接能隙半導體中,導帶的最低點和價帶的最高點在k空間中的位置相同。這意味著電子可以直接從價帶跳躍到導帶,而無需額外的動量轉移。直接能隙半導體通常對光輻射更為敏感,適合用於光電子學應用,如發光二極體(LEDs)和激光器。
矽的間接能隙特性使其在發光效率方面不如直接能隙半導體,這就是為什麼矽不常用於光學應用,如發光二極體或激光器。相反,砷化鎵由於其直接能隙特性,在這些應用中表現出色。