題組內容
五、TEOS(tetra-ethyloxy-silane)oxide 常使用於 PMD(premetal dielectric)及 IMD
(intermetal dielectric),若不加其他摻雜物稱為 USG(undoped silicate glass),
請說明:(每小題 5 分,共 15 分)
⑶ FSG 用途為何及需摻雜何種元素。
詳解 (共 1 筆)
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詳解 #4545441
摻雜氟的矽玻璃,其薄膜間隙之填充力比US...
(共 57 字,隱藏中)
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