阿摩線上測驗 登入

試題詳解

試卷：107年 - 107-2 初級電路板製程工程師能力鑑定_第二科:電路板製造概論#90447 | 科目：電路板製造概論

試卷資訊

試卷名稱：107年 - 107-2 初級電路板製程工程師能力鑑定_第二科:電路板製造概論#90447

年份：107年

科目：電路板製造概論

33. 乾膜製程對於 1.0mil 乾膜，曝光機的能量一般控制在多少 mJ/cmP2P？
(A) 30-45
(B) 45-60
(C) 60-80
(D) 80-120
正確答案：登入後查看

詳解 (共 1 筆)

推薦的詳解#5211950
未解鎖
曝光能量會因設備光學系統老化而增加，故曝...
(共 33 字，隱藏中）
前往觀看
0
0