阿摩線上測驗 登入

申論題資訊

試卷:102年 - 102 公務升官等考試_簡任_電子工程:積體電路技術研究#43806
科目:積體電路技術
年份:102年
排序:0

申論題內容

二、討論 N 型 Si 基板與金屬的 Heterojunction 接面,因為製程上有什麼差異,因此而 會形成肖基二極體(Schottky Barrier Diode)或歐姆接觸(Ohmic Contact)兩種不 同的元件行為。(20 分)