申論題 - 阿摩線上測驗

申論題資訊

試卷：103年 - 103 地方政府特種考試_三等_電子工程：半導體工程#39513
科目：半導體工程
年份：103年
排序：0

四、

有一種使用 TEOS（tetraethyl orthosilicate）為原料的電漿加強式化學氣相沉積（Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition）技術成長二氧化矽（SiO₂）薄膜，請說明這種方法有什麼優點？（10 分）