5.有關半導體光顯微影製成步驟: A 光阻曝光、 B 光阻塗佈、C 光阻顯影， 下列製成順序何者為正確?
(A)BCA
(B)ABC
(C)CAB
(D)BAC。

答案：登入後查看
統計： A(1), B(1), C(1), D(9), E(0) #2008250