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積體電路技術
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113年 - 113 高等考試_二級_電子工程:積體電路技術#123067
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申論題
試卷:113年 - 113 高等考試_二級_電子工程:積體電路技術#123067
科目:積體電路技術
年份:113年
排序:0
申論題資訊
試卷:
113年 - 113 高等考試_二級_電子工程:積體電路技術#123067
科目:
積體電路技術
年份:
113年
排序:
0
題組內容
二、關於被動積體元件(Passive discrete devices)的設計,請回答下列問題:
申論題內容
(一)一個具有介電層的金屬氧化半導體(MOS)元件,面積為 4 μm
2
,介電層厚度為10 nm,使用介電常數
(Dielectric constant)為 25 的五氧化 二鉭 (Ta
2
O
5
) 當介電層,當該 MOS 元件外加偏壓為 5 伏特時,試分別求出該 MOS 元件可以儲存的總電荷量與每平方公分產生的電子數。 (10 分) (設真空中介電常數ε
o
為
F/cm)