17 在室溫下,考慮一pn接面矽半導體,p側之電子濃度為 1×107 cm -3,n側之電洞濃度為 1×105 cm -3,當 施加一逆向偏壓時,空乏區之分布應為下列何者?
(A)大部分空乏區位於 n 側
(B)大部分空乏區位於 p 側
(C)n 側空乏區與 p 側空乏區一樣大
(D)p 側沒有空乏區

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統計: A(13), B(16), C(2), D(0), E(0) #1241302

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#4104210
此題用的觀念是:參雜濃度越低,空乏區寬度...
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#3825762
參雜濃度高 空乏區寬 這樣ㄇ?有錯鞭打 
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私人筆記 (共 1 筆)

私人筆記#7687932
未解鎖


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