17 在室溫下,考慮一pn接面矽半導體,p側之電子濃度為 1×107
cm
-3,n側之電洞濃度為 1×105
cm
-3,當
施加一逆向偏壓時,空乏區之分布應為下列何者?
(A)大部分空乏區位於 n 側
(B)大部分空乏區位於 p 側
(C)n 側空乏區與 p 側空乏區一樣大
(D)p 側沒有空乏區
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統計: A(13), B(16), C(2), D(0), E(0) #1241302
統計: A(13), B(16), C(2), D(0), E(0) #1241302