阿摩線上測驗 登入

申論題資訊

試卷:104年 - 104 高等考試_三級_電子工程:半導體工程#39446
科目:半導體工程
年份:104年
排序:0

題組內容

二、閘極介電層製程含三層,材料之厚度分別為 30 nm(Al2O3)、20 nm(HfO2)及 10 nm( SiO 2 ),已知其介電常數( dielectric constant)分別為 9( Al2O3 ) 、 25(HfO2)及 3.9(SiO2),請求出:(每小題 10 分,共 20 分)

申論題內容

⑵加上偏壓 5 V 於三層材料,各別之壓降 VAl2O3、VHfO2 及 VSiO2 為多少?