4 在下列各選項中,那一個選項對MOS電晶體的臨界電壓(Threshold Voltage)Vt的影響最小:
(A)通道的寬長比 W/L
(B)氧化層的介電常數εαx
(C)氧化層的厚度tox
(D)半導體的雜質濃度 N
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統計: A(41), B(20), C(13), D(25), E(0) #979557
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